见倪老想去参观尼康和佳能的光刻机生产线，苏业豪这时候点点头，告诉说：
“行吧，如果以客户身份登门，应该没什么问题。我从资料上看见过，现在光刻机卡在193纳米的技术门槛上，如果能押对下一代技术，是不是有希望弯道超车？”
席间喝了点原住民自酿的红枣米酒，这玩意儿喝起来很舒服，可一杯接一杯没个准数，一不小心就多了，也挺上头。
倪老面色微红，听完笑着开口：
“理论上是这样，不过现在谁都不清楚出路究竟在哪。”
“我看过一些相关的论文，目前市场上主流的研发思路，都是在157nm的干式光刻技术路径上，佳能、尼康都在往这方面尝试。”
“另外，还有一项新的理论挺有意思，一位华裔越南科学家叫做林宝坚，他提出用水作为曝光介质，光源波长还是用原来的193nm，但通过水的折射，让进入光阻的波长缩小到134nm，起名叫做浸没式，我在杂志上看见过。”
“点子蛮有意思，只是一旦往这方面尝试，意味着要把以前的技术路线推翻，代价实在太大……”
苏业豪同样喝了不少米酒，听到“浸没式”三个字时候，只觉得特别耳熟。
既然能够让他觉得耳熟，实际上已经足够说明许多问题，顿时对倪老问道：“你觉得这项技术，研究前景怎么样？走常规路线，想在一定程度上掌握光刻机话语权，估计是行不通了，这种时候剑走偏锋，或许可以闯出一条新路呢。”
“……我没怎么了解过，假如小苏总想知道的话，那我回去查查，过几天再给你答复？”
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